Environment-friendly chemical mechanical polishing for copper with atomic surface confirmed by transmission electron microscopy
已完结
10
由 用户wNeqJr 发布于 2026-09-20 10:12
作者:
Dongdong Liu , Zhenyu Zhang , Jiajian Feng , Zhibin Yu , Fanning Meng , Chunjing Shi , Guanghong Xu , Shuyan Shi , Wei Liu
文献类型:
期刊论文
补充材料:
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Elsevier
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