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Plasma-Stoichiometry-Driven Densification Behavior and Moisture Transport Correlation in Low-Temperature Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition SiO2 Films

求助中 20 由 用户F4HgfJ 发布于 2026-10-27 16:55
作者: Hyunseo Park; Ire Oh; S. Hong; Seung-Min Lee; Yun-Hui Jang; et al
文献类型: 期刊论文
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17小时前
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用户F4HgfJ 用户F4HgfJ
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